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                        無(wú)塵室是對(duì)空間內(nèi)空氣中的微粒做到控制，所構(gòu)造的特殊封閉性建筑?？傮w來(lái)說(shuō)，無(wú)塵室也會(huì)對(duì)溫濕度、氣流運(yùn)動(dòng)模式、與震動(dòng)噪音等環(huán)境因素做控制。 無(wú)塵室對(duì)等級(jí)的不同，對(duì)一定空間內(nèi)的微塵粒子最大容許量有一定規(guī)范，在國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)中分為ISO-14644，ISO-14644的等級(jí)定義。這里所指的微粒塵埃是肉眼無(wú)法看見(jiàn)的灰塵及粒子，一般空氣清凈機(jī)無(wú)法完全清除之灰塵。 無(wú)塵室一般分為電子、精密工業(yè)用（ICR）；及需控制微生物濃度等制藥、食品產(chǎn)業(yè)用。

                        在JIS標(biāo)準(zhǔn)中，無(wú)塵室清潔度，分8個(gè)等級(jí)，通常清潔度是指空氣的潔凈等級(jí)，分為1到8個(gè)階段。在1立方公尺的空氣中，粒徑0.1微米的灰塵若是在10個(gè)以下時(shí)為1；百個(gè)以下是100=102是等級(jí)2；千個(gè)以下時(shí)是1000=103等級(jí)3，以此類推。  21世紀(jì)，尖端科技產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，加速了產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)的變革，無(wú)塵室設(shè)立的必要性也相對(duì)地提高。產(chǎn)品逐漸的小型化和精密化，塵埃和溫濕的變化對(duì)產(chǎn)品的完成度同樣造成極大的危害，導(dǎo)致品質(zhì)下降，隨著產(chǎn)品的高品質(zhì)要求，環(huán)境無(wú)塵化的要求也越來(lái)越高。因此在無(wú)塵室中用防塵材料及產(chǎn)品都顯得非常重要。  無(wú)塵室屬于人造的環(huán)境，里面含有的粒子遠(yuǎn)低于一般的環(huán)境，隨著集成電路的級(jí)數(shù)的快速成長(zhǎng)，也增加了對(duì)制造環(huán)境(無(wú)塵室)潔凈度要求，在工業(yè)上即使使粒子之尺寸想小于0.1微米.也可能阻礙產(chǎn)品的制作或降低其壽命。優(yōu)于納米技術(shù)的興起，造成半導(dǎo)體關(guān)鍵尺寸持續(xù)縮小，集成電路積集度不斷地增加，塵粒更容易使芯片失效或可靠度下降。例如當(dāng)金屬塵粒落到金屬導(dǎo)線時(shí)，就可能會(huì)使金屬導(dǎo)線形成短路。所以無(wú)塵室為集成電路制造必不能少的因素。